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當(dāng)前位置：HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部>>光柵光譜儀>> PGS/PGM 200PGS/PGM 200真空紫外光譜儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
PGS/PGM 200光譜儀憑借優(yōu)異的消像差設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)一機(jī)兩用，配合單通道探測(cè)器作為單色儀，配合CCD使用作為攝譜儀。光路由一片平面光柵和一片超環(huán)面鏡組成，為紫外光譜分析優(yōu)化設(shè)計(jì)。掠入射光路設(shè)計(jì)將可探測(cè)波長(zhǎng)拓展到4nm，與此同時(shí)，攝譜儀模式下焦平面垂直于出射光軸，使CCD上接受的光通量zui大化。
真空紫外光譜儀技術(shù)特點(diǎn)
HJY的消像差平面光柵結(jié)合超環(huán)面鏡，同時(shí)兼顧高分辨率和低像差。
在軸設(shè)計(jì)，光路易準(zhǔn)直。
出射光直射CCD表面，光通量大。
只需更換出射狹縫和法蘭，即可實(shí)現(xiàn)單色儀和攝譜儀之間的切換，一機(jī)兩用。
支持超高真空10-9mbar，可接入同步輻射裝置。
典型應(yīng)用
X射線光電子能譜
等離子體物理研究
高次諧波濾波
紫外反射
EUV光源表征
真空紫外光譜儀技術(shù)指標(biāo)
| 三塊標(biāo)準(zhǔn)光柵可選 | |
| 54401010 | 1800 gr/mm 光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：4-16.5nm (75-310eV) 或 4-26nm (47-310eV) 出射端口色散：0.4-0.68nm/mm 分辨率：0.2nm |
| 54402010 | 800 gr/mm光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：10-35 nm (35–124eV) 或10-56nm (22-124eV) 出射端口色散：1.0 – 1.14m/mm 分辨率：0.3nm |
| 54406010 | 450 gr/mm光柵，攝譜儀模式下 光譜范圍：16-65 nm (7–80eV) 或 16-103nm (12-77eV) 出射端口色散：1.7–2.7m/mm 分辨率：0.5nm |
| 光學(xué)設(shè)計(jì) | HJY平面光柵加超環(huán)面鏡光路設(shè)計(jì) |
| 焦長(zhǎng) | 200 mm |
| 孔徑 | f/17 |
| 分辨率 | 低至0.2nm |
| 波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng) | 步進(jìn)電機(jī) |
| 高真空 | 10-6 mbar |
| 真空泵法蘭 | DN63 LF |
| 狹縫 | 測(cè)微狹縫 |
| 陣列探測(cè)器法蘭 | DN100CF/ICF152 |
| 可選項(xiàng) | |
| 狹縫 | 自動(dòng)或固定 |
| 超高真空 | 10-9 mbar，配備DN100CF真空泵法蘭和DN40CF真空計(jì)接口 |
單色儀模式下測(cè)得的30.4nm 氦譜線
附件
前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配
后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配
樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
偏振插片
制冷機(jī)，zui低至4K
真空泵
